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電鍍生產(chǎn)線的整流電源是什么?一般使用電鍍?cè)O(shè)備效率高嗎?今天讓我們一起來了解看看吧!

電鍍?cè)O(shè)備配件

電鍍時(shí)的表面狀況和加工要求，選擇其中適當(dāng)?shù)膸讉€(gè)步驟，對(duì)零件表面進(jìn)行必要的修整加工，使零件具有平整光潔的表面，這是能否獲得優(yōu)質(zhì)鍍層的重要環(huán)節(jié)。

鍍前處理工藝中，所用的主要設(shè)備有磨、拋光機(jī)、刷光機(jī)、噴砂機(jī)、滾光機(jī)和各類固定槽。電鍍處理是整個(gè)生產(chǎn)過程中的主要工藝。根據(jù)零件的要求，有針對(duì)性選擇某一種或幾種單金屬或合金電鍍工藝對(duì)零件進(jìn)行電鍍或浸鍍等加工，以達(dá)到防蝕、耐磨和美觀的目的。

一、什么是電鍍?cè)O(shè)備的整流電源

電鍍處理過程中所用的設(shè)備主要有各類固定槽、滾鍍槽、掛具、吊籃等。鍍后處理是對(duì)零件進(jìn)行拋光、出光、鈍化、著色、干燥、封閉、去氫等工作，根據(jù)需要選用其中一種或數(shù)種工序使零件符合質(zhì)量要求。鍍后處理常用設(shè)備主要有磨、拋光機(jī)、各類固定槽等。

與其他工業(yè)技術(shù)相比，電鍍技術(shù)的設(shè)備不僅很簡(jiǎn)單，而且有很大的變通性，以電源為例，只要是能夠提供直流電的裝置，就可以拿來做電鍍電源，從電池到直流發(fā)電機(jī)，從橋堆到硅整流器、從可控硅到開關(guān)電源等，都是電鍍可用的電源。其功率大小既可以由被鍍產(chǎn)品的表面積來定，也可以用現(xiàn)有的電源來定每槽可鍍的產(chǎn)品多少。

正式的電鍍加工都會(huì)采用比較可靠的硅整流裝置，并且主要的指標(biāo)是電流值的大小和可調(diào)范圍，電壓則由0～18V隨電流變化而變動(dòng)。根據(jù)功率大小而可選用單相或三相輸入，要能防潮和散熱。

工業(yè)用電鍍電源一般從l00A到幾千安不等，通常也是根據(jù)生產(chǎn)能力需要而預(yù)先設(shè)計(jì)確定的，建議是單槽單用，不要一部電源向多個(gè)鍍槽供電。如果只在實(shí)驗(yàn)室做試驗(yàn)，則采用5～1OA的小型實(shí)驗(yàn)整流電源就行了。

二、電鍍?cè)O(shè)備效率是否高

現(xiàn)一種高效率快速電鍍?cè)O(shè)備可以同時(shí)對(duì)多個(gè)工件進(jìn)行電鍍。并且在電鍍過程中對(duì)液體介質(zhì)進(jìn)行攪拌，使得可以加快對(duì)工件電鍍，并且攪拌電鍍的同時(shí)對(duì)液體介質(zhì)從電鍍箱內(nèi)抽出來過濾掉雜質(zhì)，時(shí)刻堅(jiān)持電鍍的純度和質(zhì)量，使得大大提高了電鍍的效率，高效率快速電鍍?cè)O(shè)備。

包括電鍍箱、雜質(zhì)過濾網(wǎng)和攪拌器，所述電鍍箱放置在機(jī)架上，且上端放置著電鍍箱蓋且在接觸處進(jìn)行密封，所述電鍍箱蓋的上端設(shè)置有若干個(gè)負(fù)極桿和電鍍工件，所述負(fù)極桿和電鍍工件的下端伸入到電鍍箱內(nèi)。

所述電鍍箱內(nèi)灌有電鍍使用的液體介質(zhì)，負(fù)極桿和電鍍工件的下端浸泡在該液體內(nèi)，所述電鍍箱的下端設(shè)置有一排攪拌器，所述攪拌器的葉片局部在液體介質(zhì)內(nèi)，驅(qū)動(dòng)局部固定在機(jī)架上。

所述電鍍箱的一端設(shè)有吸液體管道，電鍍箱和吸液體管道的連接處裝置了單向閥，所述吸液體管道的另一端連接著雜質(zhì)過濾網(wǎng)的下端，所述雜質(zhì)過濾網(wǎng)的上端連接著抽液體泵，所述抽液體泵的輸出端通過排出管道連接著電鍍箱，所述雜質(zhì)過濾網(wǎng)和抽液體泵放置在泵支撐座，所述泵支撐座固定在電鍍箱外側(cè)面上。

以上就是電鍍?cè)O(shè)備效率和整流電源的介紹，如果想了解更多關(guān)于電鍍?cè)O(shè)備生產(chǎn)線的信息，歡迎聯(lián)系我們。

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