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電鍍設(shè)備的使用效率是人們關(guān)心的問題,電鍍設(shè)備的使用效率受哪些因素影響呢?接下來由電鍍設(shè)備廠為大家一一解答。
電鍍設(shè)備包括電鍍箱、雜質(zhì)過濾器和攪拌器。電鍍箱放在框架上,電鍍箱蓋放在上端,接觸處密封。所述的鍍箱蓋上端設(shè)有數(shù)個負(fù)極桿及電鍍件,所述負(fù)極桿及電鍍件的下端伸入鍍盒。
電鍍箱充滿電鍍液體介質(zhì),負(fù)極桿和電鍍工件的下端浸泡在液體中。電鍍箱的下端有一排攪拌器,攪拌器的葉片部分在液體介質(zhì)中,驅(qū)動部分固定在框架上。
電鍍箱的一端設(shè)有吸液管,電鍍箱與吸液管的連接處設(shè)有單向閥,吸液管的另一端與雜質(zhì)過濾器的下端連接,雜質(zhì)過濾器的上端與抽水泵連接,抽水泵的輸出端通過排水管與電鍍箱連接,雜質(zhì)過濾器和抽水泵放上,泵支撐臺固定在電鍍箱的外側(cè)。
電鍍設(shè)備可連續(xù)自動運(yùn)行,可有效過濾、洗滌、脫水、操作現(xiàn)場清潔,便于檢查和維護(hù)。
1.鍍前基體表面粗糙度:基體表面粗糙度值越小,鍍后表面粗糙度值越小;
2.鍍液溫度:高溫鍍液后表面粗糙度值大;
3.電流密度:電流密度越大,電鍍設(shè)備廠家鍍后表面粗糙度值越大;
4.鍍液濃度:鍍液濃度大鍍后表面粗糙度值就大;
5.電鍍時間:電鍍時間越長,表面粗糙度值越大。
電鍍生產(chǎn)線往往需要大量的電鍍設(shè)備,那么如何選擇電鍍設(shè)備呢?
溶液自動管理系統(tǒng)是檢測和控制溶液成分和工藝參數(shù)的裝置。
電鍍電源是電鍍生產(chǎn)過程中重要的輔助設(shè)備。硅整流器和可控硅整流器在我國得到了廣泛的應(yīng)用,分為調(diào)壓器調(diào)壓、磁飽和電抗器調(diào)壓和可控硅凋壓。
電鍍硅整流器和可控硅整流器都是低壓大電流,一般為12V(鍍鉻18V)。電流從100A到20000A都有可控硅調(diào)壓的硅整流器。只有在負(fù)荷高的情況下,電鍍電源才能具有良好的穩(wěn)流穩(wěn)壓和穩(wěn)定的電流密度。
超聲波的空化效應(yīng)可以大大加快前處理的脫脂、除銹,縮短處理時間、提高脫脂、除銹效果。
過濾機(jī)是關(guān)系到電鍍產(chǎn)品質(zhì)量的關(guān)鍵設(shè)備之一。在選擇濾芯和濾布時,應(yīng)注意真實(shí)的過濾精度。
以上就是“電鍍設(shè)備使用效率受影響的原因”的介紹,需要了解更多關(guān)于電鍍設(shè)備廠的詳細(xì)信息,歡迎聯(lián)系我們亞美制造商了解。
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